Bridge the gap between TSV and traditional WLFO/FOWLP

当社の Silicon Wafer Integrated Fan-out Technology(SWIFT®/HDFO)は、シングルおよびマルチチップのパッケージにおいてフットプリントとプロファイルを低減しながら、I/Oと回路密度の向上を実現します。

SWIFTおよびHDFOデータシートへのリンク

SWIFT®技術は、高度な3D構造の構築を可能にし、新たなモバイルおよび
ネットワーキングアプリケーションにおけるIC統合の高度化ニーズに対応します。SWIFT®の特徴的な性能は、革新的なウェーハレベルパッケージング技術に起因する微細構造対応力にあります。よりアグレッシブなデザインルールを、従来のWLFOやラミネートベースの組立と比較して適用できるようになります。

SWIFT®のユニークな機能には次のものが含まれます:

  • ポリマー絶縁層
  • マルチチップ、大型チップ対応
  • 大型パッケージに対応
  • インターコネクト密度:2/2μmまで対応
  • Cuピラーチップ接続:30 μmピッチ対応
  • スルーモールドビア(TMV®)または高さのあるCuピラーを利用した3D/パッケージ・オン・パッケージ対応
  • JEDEC MSL2a、MSL3 CLR、BLR適合

SWIFT®パッケージングを実現する技術:

主要な組立技術により、この特色あるSWIFT®パッケージの製造が可能となります。ステッパー装置を使用することで、2/2 μmライン/スペースが実現でき、通常2.5DのTSVが使用されるSoCパーティショニングおよびネットワーク機器に求められる高密度のチップ間接続が可能になります。ファインピッチチップのマイクロバンプは、アプリケーションプロセッサやベースバンド機器などの先端製品向けに高密度接続を提供します。さらに、高さのあるCuピラーが、SWIFT®最上部に高度なメモリを実装するための高密度積層インターフェイスを可能にします。

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